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        碳方程新材料公司在CVD長晶設備研發(fā)生產(chǎn)上形成了完善的設備及產(chǎn)品體系,并且在CVD金剛石實驗室生長工藝研發(fā)上取得了突破性的進展,以“設備+工藝”為方針,相互引導,相互依托,以規(guī)模生產(chǎn)為研發(fā)基石,共筑”MPCVD”生產(chǎn)技術(shù)藍圖。

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        金剛石熱沉片,半導體散熱領域的王者!

        • 作者:碳方程新材料(山西)有限公司
        • 類別:行業(yè)新聞
        • 更新時間:2024-09-14 15:38:52
        • 瀏覽量:55人閱讀

        隨著電子產(chǎn)品不斷邁向更高程度的集成化、小型化與智能化,電子元器件正面臨功率輸出提升與熱流密度激增的雙重挑戰(zhàn)。與此同時,半導體技術(shù)的迅猛飛躍,特別是在新能源、電子信息技術(shù)及航空航天等前沿領域的持續(xù)革新,促使熱量產(chǎn)生量急劇攀升。在這一背景下,散熱性能成為了制約高功率設備進一步發(fā)展的核心瓶頸。

         金剛石憑借其高熱導率特性,并得益于化學氣相沉積(CVD)技術(shù)的顯著進步,已成為熱管理領域的明星材料。金剛石卓越的導熱能力不僅有效延長了電子元器件的使用壽命,還極大地提升了設備的整體性能與運行效率,為突破散熱難題提供了強有力的解決方案。

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        金剛石通過晶格振動傳熱,碳原子產(chǎn)生振動的量子能量較大,也就是振動頻率很高,因此熱導率非常高。天然單晶金剛石的室溫(25℃)熱導率可達到22 W/(cm·K),作為對比,金屬銅的熱導率約為4 W/(cm·K),而傳統(tǒng)的半導體材料硅的熱導率不足2 W/(cm·K)。采用CVD法人工培育的金剛石,其室溫熱導率通常也能達到10-20 W/(cm·K)。

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        碳方程在高端人造金剛石產(chǎn)品及MPCVD設備研發(fā)方面的顯著成果,不僅標志著半導體器件散熱技術(shù)的重大飛躍,更為高功率電子設備的性能提升與壽命延長提供了強有力的技術(shù)支持,對推動相關(guān)行業(yè)的技術(shù)進步與發(fā)展具有重要意義。

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