TFC-10800D，微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備是最先進(jìn)的 CVD系統(tǒng)。針對用戶的具體要求設(shè)計和研制的一臺多用途、高穩(wěn)定中等壓強微波等離子體（MPCVD）綜合設(shè)備。它具有智能化生長、性能先進(jìn)、功能完善、結(jié)構(gòu)合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點，特別適合應(yīng)用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學(xué)汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領(lǐng)域。