TFC-50200A

碳方程50200A MPCVD設(shè)備采用915MHZ的微波頻率及50KW運(yùn)行功率，該設(shè)備單爐可生產(chǎn)8英寸多晶產(chǎn)品，若用于生產(chǎn)單晶金剛石，單爐能夠穩(wěn)定產(chǎn)出多達(dá)489 片尺寸為 7*7mm的單晶金剛石，具有高可靠性、穩(wěn)定運(yùn)行、無人值守的安全聯(lián)鎖性能，極大地提高了生產(chǎn)效率，此設(shè)備旨在解決大尺寸金剛石的生長、高沉積速率的難題。 了解詳情

TFC-10800D

TFC-10800D，微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備是最先進(jìn)的 CVD系統(tǒng)。針對(duì)用戶的具體要求設(shè)計(jì)和研制的一臺(tái)多用途、高穩(wěn)定中等壓強(qiáng)微波等離子體（MPCVD）綜合設(shè)備。它具有智能化生長、性能先進(jìn)、功能完善、結(jié)構(gòu)合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點(diǎn)，特別適合應(yīng)用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學(xué)汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領(lǐng)域。 了解詳情

TFC-10800C

TFC-10800C，微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備是最先進(jìn)的 CVD系統(tǒng)。針對(duì)用戶的具體要求設(shè)計(jì)和研制的一臺(tái)多用途、高穩(wěn)定中等壓強(qiáng)微波等離子體（MPCVD）綜合設(shè)備。它具有智能化生長、性能先進(jìn)、功能完善、結(jié)構(gòu)合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點(diǎn)，特別適合應(yīng)用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學(xué)汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領(lǐng)域。 了解詳情

TFC-6500B

TFC-6500B，微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備是最先進(jìn)的 CVD 系統(tǒng)。針對(duì)用戶的具體要求設(shè)計(jì)和研制的一臺(tái)多用途、高穩(wěn)定中等壓強(qiáng)微 波等離子體（MPCVD）綜合設(shè)備。它具有智能化生長、性能先進(jìn)、功能完 善、結(jié)構(gòu)合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點(diǎn)，特別適合應(yīng)用于 單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學(xué)汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領(lǐng)域。 了解詳情

TFC-6650C

TFC-6650C，微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備是最先進(jìn)的 CVD 系統(tǒng)。針對(duì)用戶的具體要求設(shè)計(jì)和研制的一臺(tái)多用途、高穩(wěn)定中等壓強(qiáng)微波等離子體綜合設(shè)備。它具有智能化生長、性能先進(jìn)、功能完 善、結(jié)構(gòu)合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點(diǎn)，特別適合應(yīng)用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學(xué)汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領(lǐng)域。 了解詳情